​阻尼布 MYH-DF760 （黑皮）阻尼布 MYHDF760（黑皮） 是光纤连接器端面精抛 / 终抛核心耗材，专为光纤插芯高精度抛光设计，可实现超光洁端面、稳定控制光纤高度，保障低损耗、高回损连接。 核心作用· 超精抛光，消除前道划痕，提升端面光洁度· 精准稳定光纤高度，达到理想物理接触（PC/A

​碳化硅研磨垫SC16 碳化硅研磨垫 SC16 是光纤连接器端面研磨的关键粗磨耗材，以高精度碳化硅磨料为核心，专为插芯定厚、快速拉纤工序设计，稳定控制光纤高度与端面平整度。 核心作用· 快速粗磨定厚，高效去除光纤与插芯余量· 精准拉纤，将光纤高度控制在标准区间· 优化端面形态，降低后续精抛难度· 提升

​碳化硅研磨垫 SC3 碳化硅研磨垫 SC3 是光纤连接器端面精密研磨核心耗材，采用精细碳化硅磨料制成，用于光纤插芯精磨与纤高精细修正，是实现低损耗连接的关键工序耗材。 核心作用· 精密研磨，精准控制光纤高度至标准区间· 精细修复端面，减少划痕、提升光洁度· 优化物理接触，降低插损与回波损耗· 为最终

​拉纤液 MYH-NFL300 一、拉纤液简介光纤拉纤液（也称光纤拉纤研磨液）是光通讯连接器生产中的关键耗材，核心作用是通过精密研磨，精确控制并拉升（降低）光纤高度（Fiber Height），确保光纤端面在插芯中处于理想的物理位置。 精确控制光纤高度，拉升纤高。“拉升纤高” 是行业术语，指通过研磨将

​氧化锆抛光液 MYH-ZPS200一、氧化锆抛光液简介：氧化锆抛光液是精密抛光加工中的核心耗材，核心作用是通过温和且高效的抛光作用，去除工件表面瑕疵、提升表面光洁度，确保工件达到后续加工或使用所需的表面精度要求，适配多种材质的精密抛光场景。 提升表面光洁度，去除表面瑕疵。“精密抛光”是行业核心工序，

​氧化锆抛光液 MYH-ZPS100一、氧化锆抛光液简介氧化锆抛光液（也称纳米氧化锆抛光液）是精密光学、金属加工领域的核心耗材，核心作用是通过精密抛光，去除工件表面瑕疵、提升表面光洁度，确保工件达到后续加工或使用的理想表面状态。 提升表面光洁度，去除表面瑕疵。“精密抛光”是行业术语，指通过纳米级磨粒的

​氧化锆抛光液 MYH-ZPS30一、氧化锆抛光液简介氧化锆抛光液（也称氧化锆精密抛光液）是精密加工领域的关键耗材，核心作用是通过精细抛光，去除工件表面瑕疵、提升表面光洁度与平整度，确保工件达到后续装配或使用的核心要求，广泛适配多种硬质材料的精密加工场景。 精细抛光增亮，提升表面精度。“精密抛光”是行

​氧化铈抛光液 MYH-COPST 产品详情MYH-COPST 是 MYHMICRO（铭衍海）出品的纳米氧化铈水性抛光液，专为光学玻璃、半导体、显示面板、汽车玻璃等硬脆材料超精密平坦化设计，核心优势为高去除速率、高选择比、低损伤、易清洗、稳定性强。一、产品参数基础理化参数· 产品型号：MYH-COPS

​氧化铈抛光液 MYH-COPS40一、氧化铈抛光液简介氧化铈（CeO₂）抛光液是精密抛光领域的核心耗材，核心作用是通过化学机械抛光（CMP）工艺，对各类材质表面进行精密研磨抛光，实现高平坦化、高洁净度的表面效果，适配多行业精密加工需求。 高平坦化抛光，提升表面洁净度。“高平坦化”是行业核心需求，指通

​氧化铈抛光液 MYH-COPS20一、氧化铈抛光液简介氧化铈（CeO₂）抛光液是精密抛光领域的核心耗材，核心作用是借助氧化铈磨料的化学活性与物理切削性能，对各类玻璃、半导体等材质进行高精度抛光处理，实现表面高平坦化、无划痕的理想效果，适配多种高端精密制造场景。 高平坦化抛光，表面无划痕。“高平坦化”

​氧化铈抛光液 MYH-COPS10一、氧化铈抛光液简介氧化铈抛光液（也称纳米氧化铈抛光浆料）是半导体芯片晶圆制造过程中的关键耗材，核心作用是通过化学与机械协同作用的精密抛光，实现晶圆表面的全局均匀平坦化，确保晶圆表面达到后续光刻、沉积等工序所需的理想平整度与洁净度，为芯片高性能发挥奠定基础。 精准实

​氧化铈抛光液 MYH-COPS05 一、氧化铈抛光液简介氧化铈抛光液是精密光学与电子制造领域的核心抛光耗材，依托氧化铈磨料优异的化学机械抛光性能，对各类硬质脆性材料进行高精度表面处理，实现工件表面平整光洁、无损伤抛光，保障产品光学性能与外观品质达标。 二、核心作用通过化学作用与机械研磨协同作用，高效

​氧化硅抛光液 MYH-SOP480产品简介铭衍海氧化硅抛光液 MYH-SOP480 为光通信 + 半导体双领域超精密抛光核心耗材，核心成分为电子级高纯度超细纳米氧化硅磨粒，依托柔性抛光原理，可实现光学器件端面原子级光洁、半导体晶圆纳米级平整，无损伤精整基材，兼顾光通信超低插损需求与半导体制程严苛标准

​氧化硅抛光液 MYH-SOP420产品简介铭衍海 MYH-SOP420 是半导体制程 CMP 工艺核心抛光耗材，核心为电子级高纯度纳米球形氧化硅磨粒，依托化学机械抛光协同特性，实现硅晶圆、介质层、金属互连层纳米级精密抛光，无损伤、无残留、平整度优异，契合半导体前 / 后道制程严苛标准，亦可兼容光通信

​碳化硅抛光液 MYH-SCPS500碳化硅抛光液简介碳化硅抛光液 MYH-SCPS500 是第三代半导体碳化硅材料加工的核心精密抛光耗材，通过化学机械协同抛光，实现碳化硅晶片 / 器件表面原子级平坦化，精准控制表面粗糙度与面型精度，消除加工损伤层，保障碳化硅基器件在光电、半导体领域的高性能应用。 超

​金刚石抛光液 MYH-DPS500金刚石抛光液简介金刚石抛光液 MYH-DPS500 是铭衍海针对高端精密制造研发的超精细抛光耗材，以高纯度微米级金刚石微粉为核心磨料，搭配定制化复合体系制成，核心作用是对硬质合金、陶瓷、高温合金等超硬难加工材料进行超精密抛光，精准控制表面粗糙度与平面度，实现镜面级表

​金刚石抛光液 MYH-DPS200金刚石抛光液简介金刚石抛光液 MYH-DPS200 是以高纯度纳米金刚石微粉为核心磨料，搭配精准配比的分散、润滑、冷却体系制成的精密加工核心耗材，核心作用是通过超精密抛光加工，对硬质合金、陶瓷、高温合金等超硬材料工件表面进行高效磨削与镜面处理，精确控制工件表面粗糙度

​金刚石抛光液 MYH-DPS80产品简介金刚石抛光液 MYH-DPS80 是精密制造核心抛光耗材，以高纯度金刚石微粉为核心磨料，通过精密磨削抛光，精准控制工件表面粗糙度，实现镜面级抛光效果，消除加工划痕、微裂纹等缺陷，保障精密零部件的表面精度与使用性能。 产品特点1. 粒度精准：磨粒分级严格、分布窄

​氧化铝抛光液MYH-APS400一、氧化铝抛光液MYH-APS400简介氧化铝抛光液 MYH-APS400 是光通讯器件、精密光学元件及不锈钢精密部件生产中的核心抛光耗材，通过氧化铝磨料的温和精密研磨，高效去除工件表面细微划痕、毛刺、氧化层及加工瑕疵，显著提升表面光洁度、平整度与镜面效果，确保工件满

​氧化铝抛光液MYH-APS100一、产品简介氧化铝抛光液MYH-APS100是光通讯、精密光学等领域精密加工中的关键耗材，核心作用是通过精细抛光，去除工件表面细微划痕、提升表面光洁度与平整度，确保工件达到后续装配或使用的理想精度要求。 精细提亮表面，去除细微瑕疵。x“精细抛光”是行业术语，指通过纳米

​一、产品简介：铭衍海（常州）微电子氧化铝抛光液MYH-APS05 是一款专为半导体、光学及精密金属等高端制造场景研发的酸性氧化铝抛光液，以高纯度 α- 氧化铝为磨料，采用分散技术配制的稳定水性悬浮液。专为化学机械抛光（CMP）工艺设计，通过机械研磨 + 弱化学腐蚀的协同作用，实现低损伤、高效率的超精

​氧化铝抛光液 MYH-APS150一、氧化铝抛光液MYH-APS150简介氧化铝抛光液MYH-APS15是光通讯、精密金属加工等领域的核心耗材，尤其在光纤器件、不锈钢制品精密加工中发挥关键作用，核心作用是通过精密研磨抛光，去除光纤、不锈钢工件表面细微划痕、杂质及损伤层，提升表面光洁度与平整度，确保光

​氧化铝抛光液 MYH-APS80一、产品简介氧化铝抛光液MYH-APS80是高端精密制造核心耗材，通过“物理研磨+化学辅助”，去除工件表面损伤层与毛刺，获得超光滑无缺陷表面，保障工件精度与性能。 精准抛光，低损高效。 本品核心为“纳米级抛光”，以纳米氧化铝磨料实现原子级修整（Ra达纳米级），可：1.

​氧化铝抛光液 MYH-APS08一、氧化铝抛光液简介氧化铝抛光液（也称纳米氧化铝抛光液）是精密加工领域的关键耗材，核心作用是通过精密研磨抛光，去除工件表面细微划痕、提升表面光洁度与平整度，确保工件达到后续加工或使用的理想表面状态，广泛适配多种材质的精密抛光需求。 高效提升表面光洁度，优化抛光效果。

​氧化硅抛光液 MYH-SOP40一、氧化硅抛光液简介氧化硅抛光液（也称胶态二氧化硅抛光液）是化学机械抛光（CMP）工艺中的核心耗材，核心作用是通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用，实现材料表面纳米级平坦化加工，确保抛光工件达到超光滑、低损伤的表面精度要求。精准实现纳米级平坦化，兼顾抛光效率与表面质量。“

​氧化硅抛光液 MYHSOP05一、产品简介MYHSOP05 是铭衍海（MYHMICRO）研发生产的高纯胶体二氧化硅抛光液，属于超精密终抛型 CMP 抛光耗材。产品以5nm 单分散球形纳米 SiO₂为磨料，采用稳定碱性水性体系，经多级纯化、精密分散与颗粒调控工艺制成，专为半导体、光学、显示面板、蓝

​伴随光通信产业升级，MT/MPO 多芯连接器对抛光精度与生产效率提出更高要求。铭衍海（常州）微电子有限公司聚焦行业关键痛点，推出MYH-2in1G 光纤二合一研磨液，以创新工艺重构抛光流程，实现降本增效、品质升级，可直接替代进口精密研磨液。一、产品简介MYH-2in1G 光纤二合一研磨液，是专为光纤

​随着5G、云计算技术快速迭代，光通信传输质量要求持续提升，MT/MPO连接器研磨工艺已成为制约行业产能与成本控制的核心瓶颈。铭衍海国产二合一光纤研磨液MYH-2inG，成功打破进口品牌垄断，依托“二合一”核心工艺优势，精准助力企业节约生产成本与时间，提供高效可行的降本增效解决方案。 传统光纤抛光采用

​在光通信行业高速发展的今天，MT/MPO多芯连接器作为高密度布线的核心，其端面抛光质量直接影响信号传输的稳定性。然而，传统四步抛光法（去胶-粗磨-拉纤-精抛）工序繁琐、耗时长、对人员依赖度高，一直是产能提升的瓶颈。现在，铭衍海（常州）微电子有限公司正式推出MYH-2in1G 光纤二合一研磨液，用

​光通信产业快速发展，光纤连接器在多场景下的精度、效率与成本需求差异化显著。铭衍海（常州）微电子推出的MYH-2in1G 光纤二合一研磨液，凭借强劲适配性与技术优势，覆盖研发测试到大规模量产全场景，成为光通信产业链关键配套材料。 数据中心场景：广泛采用MT/MPO/MTP多芯连接器，对端面一致性及光纤