喷射化学气相沉积(Spray CVD)

产地：法国AS；

- 主要用于太阳能电池氧化物、半导体、电光涂层、绝缘层、超导体、固体燃料电池等的材料制备及薄膜沉积。

- 2inch小型喷射化学气相沉积设备，主要用于实验室。沉积及退火在同一个腔体内完成。

性能和特点：

- 温度范围：室温 ~ 1200摄氏度;

- *快升温速度：250摄氏度/秒;

- 前驱体混合能力(带有Atokit喷雾器);

- **真空度：10^-6 Torr;

- 样品尺寸：不大于2英寸;