设备特点

成膜好:采用磁控溅射方式，沉积速率快，膜层均匀致密、内应力小;

适用广:适用于多种膜系，工件可选择单面或者双面镀膜

产量大:连续稳定的流水线作业，生产节拍快。产量大；

扩展强:整线为立式结构，基础款为四腔体;可增加扩展腔体满足各种工艺要求。

应用领域

适用于镀制TTO、AZ0等透明导电薄膜，以及单质金属Ti、Ag、Cu、Ni、等材料，主要应用于钙钛矿光伏电池板，平板显示，车载玻璃等产品，成膜均匀性高，膜厚稳定性高，速率稳定性高。