关注!半导体设备用关键陶瓷部件团体标准通过审定!


来源:中国粉体网   山川

[导读]  《光刻机用氧化铝陶瓷导轨》团体标准通过专家审定。

中国粉体网讯  7月4日,山东省陶瓷协会标准化技术委员会在淄博召开标准审查会,由山东硅元新型材料股份有限公司牵头制定的《光刻机用氧化铝陶瓷导轨》团体标准通过专家审定。



本次标准审查专家组由5人组成,涵盖行业协会、科研机构、高校和先进陶瓷生产企业,会议首先听取了标准起草单位的汇报,专家组对标准文本及技术内容进行了严格审查,并对部分内容提出了修改意见建议,专家组认为该标准制定程序规范、技术指标先进、试验数据可靠,一致同意通过审定,编制单位根据专家意见修改完善后形成报批稿。


在半导体制程中,光刻机负责将设计好的电路图从掩膜版转印到晶圆表面的光刻胶上,通过曝光、显影将目标图形印刻到特定材料上。芯片在生产中需要进行20-30次的光刻,先进技术节点的芯片制造需要60-90步光刻工艺,耗时占到IC生产环节的50%左右,占芯片生产成本的1/3。因此,光刻机则成为了前道工序九大设备之首,在芯片生产线总投资的占比约为20%。


光刻机对精度有极高的要求,其中移动平台是光刻机的重要系统,对光刻机的运行精度影响甚大,这就需要有效抵抗移动平台在扫描过程中由于高速移动而产生的变形。另外,光刻机在加工芯片时会产生大量的热,尺寸大小会发生明显的改变。因此,平台材料应具有较高比刚度的低热膨胀材料,还要保证较高的导热性能。


于是,导轨作为移动平台的的关键部件,选材很关键。


氧化铝陶瓷部件具有高硬度、高机械强度、超耐磨性、耐高温、电阻率大、电绝缘性能好、导热性能好等优异性能,是光刻机导轨用关键材料。




近年来,围绕半导体设备用精密陶瓷部件“卡脖子”问题,硅元新材料利用多年来在先进陶瓷领域积累的技术优势进行关键技术研究,开发了用于刻蚀、减薄、研磨、抛光、热处理等半导体制造加工制程中所需的系列高精密陶瓷部件,替代同类进口产品。


光刻机用氧化铝陶瓷导轨方面,硅元新材料在2014年组建项目组,联合国内相关科研机构、企业开展深入合作,研制出可用作光刻机用陶瓷导轨99氧化铝系列陶瓷材料和碳化硅陶瓷材料,生产出可替代国外同类产品的光刻机用氧化铝陶瓷导轨系列产品,有效解决了我国精密陶瓷制造产业中存在的“卡脖子”关键问题,显著提升了我国光刻机制造业和芯片制造产业的整体竞争力。


氧化铝陶瓷导轨在内的半导体设备用精密陶瓷已成为制约我国半导体产业发展的关键一环,其中相关标准的缺失成为该领域的短板之一,此次《光刻机用氧化铝陶瓷导轨》的制定无疑将对我国半导体设备用精密陶瓷行业的发展带来积极的引导与促进作用。


参考来源:山东省陶瓷协会、中国粉体网


(中国粉体网/山川)

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作者:山川

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