中国粉体网讯 高纯氧化铝是半导体、电子、新能源和航空航天材料等高科技尖端行业的关键基础材料,其最大特征便是高纯度(4N及以上)。但在制备高纯氧化铝过程中,往往会残留一些痕量杂质,如Na2O、K2O、SiO2、Fe2O3、Mg[更多]
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