奥法美嘉

推荐奥法美嘉 | 纳米粒度仪Nicomp Z3000在抛光液(Slurry)的应用

摘要：在先进半导体制造过程中，化学机械抛光（CMP）是实现晶圆全局与局部平坦化的核心工艺，一般认为，LPC是影响晶圆缺陷水平与良率的关键指标，而在实际应用中，抛光液（slurry）的稳定性也是影响抛光一致性、缺陷水平及最终良[更多]

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