此款CVD系统配置：
1.1200度开启式真空管式炉(可选配滑动/双管)
2.手动、电动滑动系统
3.多路质量流量控制系统
4.真空控制系统(可选配中真空或高真空)  

本CVD系统应用覆盖面广，可满足各类新型材料、薄膜涂层、粉体、陶瓷制品的制备与烧结工艺需求，核心应用场景如下：
1. 新型纳米及二维材料制备
可实现石墨烯生长、二维材料批量制备、TMDs过渡金属硫族化合物材料制备、二硫化钼材料制备、碳纳米管生长、ZnO纳米结构生长等前沿纳米材料加工，是新材料科研与产业化的核心设备。
2. 各类功能薄膜材料制备
适配多种硬质、功能型薄膜生长工艺，涵盖氧化物薄膜、碳化物薄膜、氮化物薄膜、金刚石薄膜、功能性金属涂层等，可广泛应用于材料表面改性、防护涂层、光电薄膜、半导体薄膜等领域。
3. 特种晶体与陶瓷材料制备
支持新型晶体材料生长、高性能陶瓷纤维制备，同时可完成陶瓷电容气氛烧结、粉体材料气氛烧结、非晶态合金生长等特殊工艺，适配电子陶瓷、特种合金、功能粉体材料的生产加工需求。