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各位在微纳领域深耕的研究者、工程师和老师们！
无论是高校课题组里的器件验证，科研院所的前沿探索，还是企业研发部门的原型开发与工艺摸索，微纳图形的加工往往是绕不开的一环。而电子束光刻作为无掩模直写的代表技术，既灵活又精细，却常常受限于场地、预算或排队的机时。
有没有一种选择，能让电子束光刻更贴近日常的研发与教学？
今天，泽攸科技向大家推荐我们的新品：ZEL Mini台式电子束光刻机。
ZEL Mini是泽攸科技ZEL系列电子束光刻机中的台式机型。它把电子光学、真空、图形发生器等核心系统集成在一台可以放进实验室的紧凑机身里，保留了电子束直写的核心能力，同时让设备的部署和日常使用更加轻便。
为什么说它"小而全"
稳定可靠的"芯"——LaB6电子源：ZEL Mini采用LaB6电子源，束流稳定，能够满足科研与研发场景中常见的图形直写需求，日常使用也更加务实。
从设计到图形，一站式完成：无需掩模版，设计好版图即可直接曝光。电极、光栅、透镜、超表面、光子晶体、微机电结构……改一版图、再写一遍，让方案验证和迭代更加高效。
操作清晰，上手友好：配备样品仓内观察与成像功能，操作流程清晰，新用户也能较快熟悉整个工作流程。
它适合谁
高校与科研院所课题组：覆盖前沿物理、二维材料、超表面与超材料、生物传感、微机电等方向，用于电极制备、微纳结构加工与器件验证。
企业研发与工艺开发团队：用于小批量样品制备、原型验证和工艺探索，缩短从设计到样品的周期。
教学与实训平台：让电子束光刻走进课堂和实训室，让更多人有机会真正上机操作，为微纳制造培养后备力量。
部分落地场景
器件电学与新材料：从一片样品，到能测的器件
做二维材料、量子材料或新型电子器件，第一步常常是把一小片微米级的样品转移到衬底上，再给它做电极、连线，甚至集成谐振、振荡等功能结构。每片样品的位置和形状都不一样，图形只能"跟着样品走"。
以前，这一步往往要借用外单位的平台，协调机时、来回运送样品，样品放久了状态还可能变化。图形层次一多，还得在不同设备之间反复转移、对准。现在在自己实验室就能完成，样品准备好，当天设计、曝光，实验节奏不再被加工卡住。
平面光学与超构器件：结构要反复调，才能找到最优解
超表面、超构透镜、衍射透镜、波带片，性能对单元尺寸、周期、环带宽度极其敏感，往往要扫一批参数才能定方案，图形本身又比较复杂，不是简单的直线和方块。
以前每改一次设计，就要重新制作掩模版，或者送外协加工。小批量的报价高、周期长，沟通成本也不低，一次只能验证一组方案。现在无需掩模版，设计直接驱动曝光，同一块样品上就能排出多组参数做对比，写完即测，方案迭代快了很多。
周期结构与光子学：线条要细，一致性要好
光栅、光子晶体、波导与谐振腔，核心是周期性的精细结构，用于分光、传感、显示和光场调控。这类研究既要摸索工艺窗口，又要验证原理，样品用量小，但改动频繁。
以前每试一次都要排队或外协，结果回来才发现线宽或周期有偏差，整批重做。现在设备就在身边，写完就能检查结果，发现问题当场调整参数再写一遍，工艺摸索的周期明显缩短。
怎么选
从微米到纳米，泽攸科技提供不同层级的光刻方案。
目前已有多台设备陆续交付用户，在科研、教学和研发一线投入使用。借此机会，我们想把它正式推荐给更多正在寻找合适加工平台的你。微纳加工的门槛，不应该只由设备的体量来决定。泽攸科技希望通过ZEL Mini，让电子束光刻更便捷地走进更多实验室、课堂和研发团队。
