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设备名称：粉体镀膜设备设备型号：JGCF350镀膜方式：磁控溅射真空腔室结构：Φ350mmxH350mm粉体/颗粒尺寸：≥10um物料装载：托盘震动产量：3-10g加热烘烤：可选溅射源：2英寸圆形平面靶1-2只占地面积：L1620mm×W1060mm×H1900mm总功率：≥8kW控制方式：PLC/PC控制(可选)报警及保护系统：完善的逻辑程序互锁保护系统1.在微米级以上粉体颗粒表面沉积各种纳米级
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