泽攸科技无掩膜光刻机是一种先进的光刻技术设备，它不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形，而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光，形成所需的微细图形。目前在微电子制造、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等领域有广泛的应用。技术特点▲纳米压电位移台拼接技术▲红光引导曝光，所见即所得▲OPC修正算法优化图形质量▲CCD相机逐场自动聚焦▲灰度匀光技术光路远离结构图主要指标应用案例

• 品牌: 安徽泽攸
• 型号: 无掩膜光刻机
• 价格：电议
• 电话: 400-810-0069转5600

主要简介：UTA系列是将DLP投影仪盒金相显微镜相结合的缩小投影型无掩模曝光系统，其价格低于传统系统（用于掩膜光刻的图案投影曝光系统）可以使用专门为此目的开发的软件来创建想要的图案。主要特点：显微镜LED曝光单元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的图案投影曝光装置。使用金相显微镜盒LED光源DLP投影仪，将具有机微米分辨率的任意图案投影到涂有抗蚀剂的基板上进行曝光。图案可以在PC上自由创建。因为可以

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