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热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450

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设备名称:热丝CVD金刚石膜沉积设备设备型号:HF450真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷真空腔室尺寸:Φ450mmxH500mm真空系统:复合分子泵高真空系统基片台尺寸:Φ100mm衬底温度:600~1100℃电源:专用热丝电源400A,恒流或恒功率模式气路控制:4路气体流量控制控制方式:PLC触摸屏控制占地面积:主机L1200mm×W1060mm×H1900mm总功率:≥20

  • 品牌: 北京泰科诺
  • 型号: 热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
  • 价格:电议
  • 电话: 400-810-0069转4101
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