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设备型号：ZHD300镀膜方式：多源金属蒸发真空腔室结构：玻璃钟罩+不锈钢底座真空腔室尺寸：Φ300mm×H360mm加热温度：室温～250℃基片台尺寸：Φ100mm膜厚不均匀性：Φ80mm范围内≤±5.0%蒸发源：2组金属蒸发源控制方式：PLC+触摸屏控制占地面积：主机L1100mm×W800mm总功率：≥5kW适用范围：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备
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