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镀膜方式：蒸发腔室结构：方箱式工艺室尺寸：L1900mmxH2200mmxW550mm进样室：500mm×600mm×400mm过渡室：500mm×600mm×400mm极限真空：6×10-5pa基片台尺寸：300mm×400mm基片温度：常温均匀性：≤±5.0%溅射靶：低温和高温线源配置控制：PC点地面积：4000mm×2500mm×2200功率：70KW三相五线制1.技术先进、设计优化，性价比
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