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设备型号：JCPF2600镀膜方式：磁控溅射真空腔室结构：SUS304方箱式真空腔室尺寸：L2600mmxH700mmxW260mm极限真空：优于5.0x10-5Pa基片台尺寸：300mmx400mm向下兼容300mmx300mm基片温度：常温溅射靶：矩形平面靶1套，旋转柱状靶2套控制方式：PLC/PC控制(可选)占地面积：15000mmx5000mm供电总功率：≥20kW三相五线制
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