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等离子体刻蚀制造器件过程中，有数个元件可用陶瓷材料制备。等离子体刻蚀的最片应放置在一个陶瓷支架上。为了避免支架上的晶体受到感染，该支架必须能够完全抵挡等离子体侵入。另外，刻蚀设备的一个关键雪件是窗口遮挡装置，用干传输电磁波，在产生等离子体的同时阴挡第四阶段物质的侵入。Nanoe基于上述两项应用推出一种高纯度氧化铝材料，其中加入氧化钇，允许制作出足够密度、能抵挡等离子体的工件。
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