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铭扬半导体科技(合肥)有限公司(MEC)成立于2022年12月,是一家致力于高端半导体专用设备研发、制造、销售及技术服务的科创型企业,专注于化学机械抛光(CMP)设备领域。由合肥产投领投,公司注册资本1150万元,一期投资总额达2亿元,坐落于合肥高新区,聚焦SiC、化合物半导体、先进器件及新材料的CMP工艺设备解决方案。
CMP是半导体制造中实现全局表面平坦化的关键工艺,特别是在碳化硅(SiC)衬底加工中起到去除损伤层、降低缺陷率的决定性作用。铭扬以此为核心,构建起涵盖6英寸、8英寸及12英寸晶圆的CMP整机平台,设备具备良好的平台化与模块化架构,适用于衬底材料(SiC、PolySiC、GaN、AlN、金刚石等)和平面化制程(STI、Cu、Low-K、W等)需求,已在多个材料和器件制造场景中实现规模交付和量产应用。
CMP是半导体制造中实现全局表面平坦化的关键工艺,特别是在碳化硅(SiC)衬底加工中起到去除损伤层、降低缺陷率的决定性作用。铭扬以此为核心,构建起涵盖6英寸、8英寸及12英寸晶圆的CMP整机平台,设备具备良好的平台化与模块化架构,适用于衬底材料(SiC、PolySiC、GaN、AlN、金刚石等)和平面化制程(STI、Cu、Low-K、W等)需求,已在多个材料和器件制造场景中实现规模交付和量产应用。



