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威泰半导体行业专用仪器
威泰CVD 真空化学气相沉积设备
国产半导体行业专用仪器
CVD 真空化学气相沉积设备详情
CVD设备适用于热丝法化学气相沉积金刚石,采用钨丝/钽丝作为加热器,加热分解碳物质,激活化学气相反应,制备金刚石膜。
安装形式 | 立式 |
加热器分布方式 | 圆周分布 |
加热器材质 | 钨丝/钽丝 |
保温材料 | — |
MAX温度 | 3000℃ |
控温精度 | ±1℃ |
均温性 | ±5℃ |
极限真空度 | 5×10-4Pa |
均温区尺寸 | 按客户要求定制 |
控制方式 | 自动/手动 |
CVD 真空化学气相沉积设备的工作原理介绍?
CVD 真空化学气相沉积设备的使用方法?
CVD 真空化学气相沉积设备多少钱一台?
CVD 真空化学气相沉积设备的说明书有吗?
CVD 真空化学气相沉积设备的报价含票含运费吗?
CVD 真空化学气相沉积设备有现货吗?
CVD 真空化学气相沉积设备是国产还是进口的?
有CVD 真空化学气相沉积设备的详细技术参数吗?
CVD 真空化学气相沉积设备可以应用在哪些领域?
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企业名称
沈阳威泰科技发展有限公司企业类型
有限责任公司(自然人投资或控股)信用代码
912101067209203665法人代表
胡丹萍注册地址
辽宁省沈阳市沈北新区蒲文路17-18号成立日期
2000-05-31注册资本
750万元人民币有效期限
2000-05-31 至 无固定期限经营范围
一般项目:泵及真空设备销售,烘炉、熔炉及电炉销售,金属基复合材料和陶瓷基复合材料销售,机械零件、零部件销售,保温材料销售,机械电气设备销售,技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广,新材料技术推广服务,新材料技术研发,货物进出口,技术进出口,进出口代理(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)
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CVD 真空化学气相沉积设备由沈阳威泰科技发展有限公司提供,产地为沈阳,属于国产半导体行业专用仪器,符合多项国家和国际标准,广泛应用于石油/化工、矿业/冶金、综合其他等领域,CVD 真空化学气相沉积设备凭借其创新性与实用性,在半导体行业专用仪器用户中获得广泛关注。
据中国粉体网显示:该产品已通过粉体网认证,在产品性能、服务能力等维度表现优异,用户平均评分达9.5(满分 10 分),入选半导体行业专用仪器近30天热度榜。
根据威泰官方产品资料显示:CVD 真空化学气相沉积设备的品牌为威泰科技。
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