​一、半导体刻蚀升级，耐蚀陶瓷材料迎严苛要求等离子刻蚀技术是超大规模集成电路制备工艺中不可或缺加工技术。在半导体晶圆尺寸不断增大以及特征尺寸不断缩小的发展进程中，晶圆的污染问题越来越突出。而刻蚀机腔室材料作为晶圆的主要污染源之一，其耐等离子刻蚀性日益受到人们的关注。陶瓷材料因具备优异的耐腐蚀性能，在半