认证信息
认 证：工商信息已核实
访问量：235125
手机网站
扫一扫，手机访问更轻松
产品分类
公司品牌
品牌传达企业理念
产品简介
扩散炉、低压化学气相沉积设备(LPCVD)
产地：韩国；
有单管和双管两个不同的型号，用于科研或者小规模生产。
性能和特点：
- 温度范围：500 ~ 1000摄氏度；
- 气体混合能力(带有质量流量计)；
- 真空范围：~ 10-6 Torr；
典型应用：
- 无应力氮化硅；
- LPCVD；
- 退火；
- 氧化；
- 其他...
- 推荐产品
- 供应产品
- 产品分类