中国粉体网讯 高纯二氧化硅是半导体光刻、高功率激光和航空航天等领域的关键战略基础材料。相较于传统矿物提纯路线,气相沉积技术是实现超高纯二氧化硅制备的核心途径。气相沉积分为物理气相沉积(PVD)与化学气相沉积(CVD)两大体系[更多]
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