分散

推荐不能团聚！纳米粉体在抛光液中必须分散！

中国粉体网讯 化学机械抛光（chemical mechanical polishing，CMP）技术具有卓越的材料去除能力、高精度平坦化效果及良好的工艺兼容性，成为半导体制造领域的重要表面加工方法。化学机械抛光液是影响抛光质[更多]

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