设备特点

... •大面积镀膜，多室多靶位，灵活性大; •磁导向传输系统，平稳可靠; •镀膜前有离子源对基片进行表面清洗和活化，提高附着力，改善膜层质量; •真空室加Polycold捕集水蒸汽，提高抽气能力; •便于维修的侧装分子泵和全开式真空室门; •自行开发的方便的用户易操作控制软件; •真空室的模块式设计，单点定位，便于拆装。