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真空渗镀一体机S系列是针对金属表面强化与功能化镀层需求设计的智能化设备,集真空渗镀、多元共渗、离子渗金属等工艺于一体,广泛应用于汽车零部件、航空航天、工模具、医疗植入物及新能源装备等领域。该设备采用低温渗氮与高功率磁控溅射技术,在真空环境中使基底材料表面硬化,镀层材料(如钨、钼、钛、铬等金属或其合金)离子化并深度渗入基材表面,显著提升材料的耐磨、抗蚀、耐高温及生物相容性。
四大核心组件(自由组合·协同增效)
设备优势:重新定义渗镀技术边界
1. 渗镀一体低温革命(行业首创)
· 单设备完成渗氮+镀膜全流程:
· 工作温度<400℃,适用于淬火态材料
· 生产周期缩短50%:渗镀<4-6h(传统工艺需8-12h)
· 消除界面分层:彻底解决“薄冰效应”
2. 性能碾压级突破
· 超高速渗氮:
316不锈钢:6.3μm/h(**去除“薄冰效应”)
H13模具钢:50.5μm/h(远高于常规渗氮速度)
GCr15轴承钢:6.9μm/h(300℃软化温度下基底零劣化)
· 镀层品质跃升:
致密无氧化,结合力提升300%(柔性基材直接沉积)
表面硬度翻倍:316L不锈钢渗氮1h硬度提升200%
3. 工艺自由度颠覆传统
· 全组件自由切换:支持电弧渗氮 → 离子源清洗+渗镀 → HiPIMS镀膜 → 偏压强化的全流程自由组合
· 攻克行业痛点:
无Cr氮化物析出(不锈钢渗氮核心难题)
无疏松白亮层(模具钢渗氮表面光洁)
4. 自主技术护城河
· 覆盖真空室设计、离子源、渗镀工艺等全套**技术,知识产权100%自主可控
组件 | 配置 | 差异化能力 |
阴极电弧源 | 4组柱状电弧+辅助阳极 | 高能低温渗氮(电流>250A)· 上下均匀性误差<5% |
超大功率离子源 | 4组(放电功率0-40kW) | 离化率>90% · 无功率衰减 · 溅射污染降低70% |
磁控溅射阴极 | 4组(功率>40kW) | 靶材利用率>38%(平面靶可拼接)· HiPIMS/C-HPMS全能 |
千伏脉冲偏压电源 | 1-8kV(电流>10A) | 深层渗镀一体 · 实现高能离子注入/低应力沉积 |
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