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产品分类
产品简介
系列 Series | 杂质 Impurity | 入口 Inlet（ppm） | 出口 Outlet（ppb） |
HON-CO2-S/W/VVV | O2 | ＜3 | ＜1 |
H2 | ＜1 | ＜1 | |
CO | ＜1 | ＜1 | |
CH4 | ＜0.5 | -- | |
H2O | ＜3 | ＜1 | |
挥发性酸VA | -- | ＜0.005 | |
挥发性碱VB | -- | ＜0.5 | |
耐熔化合物RC | -- | ＜0.005 | |
可冷凝有机物Corg | -- | ＜0.15 | |
不凝有机物Ncorg | -- | ＜1 | |
Flow | 10～3000Nm3/h | ||
工艺介绍：
（1）使用特殊纯化材料，通过物理和化学吸附方式脱除O2、CO、H2O、H2、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、可冷凝有机物Corg、不凝有机物Ncorg等杂质。
（2）吸附反应器吸附饱和后可通氢加热再生，反复使用。
（3）多柱交替吸附、再生，可连续供气。
应用领域：
纯化用于半导体应用的二氧化碳
气体行业
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