设备型号：ZHDS500
镀膜方式：金属 + 有机蒸发
真空腔室结构：SUS304 方箱式，配有前、后门
真空腔室尺寸：L500mmxW500mmxH650mm
加热温度：室温-300℃（选配）
基片台尺寸：抽屉式:220mmx220mm可旋转、升降、水冷
膜厚不均匀性：≤±5.0%（220mmx220mm范围内）
蒸发源：金属/有机4-6组
晶振膜厚监控仪：国产或进口（可选）
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可选 )
占地面积：L2500mmxW1600mmxH1900mm( 不含手套箱 )
总功率：≥12kW 三相五线制

1. 技术先进、设计优化，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；

2. 广泛应用于钙钛矿太阳能电池/OPV有机太阳能电池等各种膜层的制备；

如：钙钛矿层、电子传输层及背电极等膜层的制备