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产品分类 |
恒温/加热/干燥设备
LAUDA Semistat热电的过程恒温器
LAUDA Viscocool粘度恒温浴槽
LAUDA Viscotemp粘度计专用浴槽
LAUDA ET 15 S/G粘度恒温浴槽
New Integral T工艺过程恒温器
New Integral XT工艺过程恒温器
LAUDA Proline校准恒温器
LAUDA ECO加热恒温器
LAUDA Hydro组织拉伸浴槽
LAUDA Hydro蒸汽浴槽
制冷设备
新一代Ultracool工业级冷却水循环器
LAUDA LOOP半导体加热/制冷循环恒温器
LAUDA Microcool冷却水循环器
LAUDA Variocool冷却水循环器
LAUDA Ultracool工业级冷却水循环器
粘度计
LADUA Duo.Visc双浴智能粘度计
LAUDA玻璃毛细管粘度计
LAUDA iVisc毛细管粘度计
LAUDA Automatic Viscometer全自动运动粘度计
合成/反应设备
LAUDA Integral XT反应釜专用工艺过程恒温系统
LAUDA HKS工业级加热制冷恒温系统
LAUDA Integral XT 1590 W-反应釜专用-工艺过程恒温系统
比表面积测定仪
LAUDA TD 4表面张力仪
LAUDA TC1表面张力仪
LAUDA TVT 2液滴体积张力仪
生物工程设备
LAUDA Varioshake振荡培养箱(恒温器)
LAUDA Varioshake摇床(振荡器)
纯化设备
Puridest蒸馏器
联系方式 |
产品系列
产品描述
简介:
热电过程恒温器 适用于 -20 至 90 °C 的半导体行业
详细介绍:
为苛刻的工艺过程快速和精确的温度控制
热电温度控制系统LAUDA Semistat为等离子刻蚀工艺提供稳定的可重复性的温度控制。系统动态地控制静电卡盘(ESC)的温度并可以用在任何的刻蚀工艺中。LAUDA Semistat 热电温度控制系统设计的基础是基于帕尔帖原理的温度转换, 这些原件可以实现快速且精准的温度控制,满足了当今元器件生产尺寸越来越小的要求。
与基于压缩机的系统相比,热点在线使用 Semistat 温度控制系统,降低能耗多达 90 %。可安装在使用地点的地下,非常节省空间,这样**限度地减少无尘室的使用。快速和精准地将过程温度曲线控制在 ±0.1 K,从而提高晶圆间均质性。
重要功能:
l低能耗,没有压缩机和制冷剂的系统
l占地空间小,如果放置在地板下方则不占用Sub-Fab
l极低的导热液体填充量
技术参数: