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KLA NanoFlip原位纳米压痕力学测试模块
NanoFlip纳米压痕仪可以提供您的材料研究实验室带来无限的便捷。高性能多功能性是NanoFlip设计的标志,当需要进行成像集成,需要进行频繁的转换和广泛的样本控制时,无论是环境测量还是原位测试,无论有无真空,都能提供同样出色的结果。
Fib2Test技术允许用户将样品倾斜90度,以便在双光束SEM内从FIB无缝过渡到压痕测试,而无需移除样品。
设计为完全真空兼容,并且具有独特的样品触发功能,NanoFlip非常适用于现场环境,如SEM,FIB和真空室,或者当您的实验带您迁移时,可以在任何情况下工作可以想象的成像系统,如AFM,光学显微镜和光学Pro测量仪,为您提供几乎无限的成像选项。
电磁执行器用于KLA生产的所有系统,包括NanoFlip。这些执行器是坚固的线性装置,固有地解耦力和位移。它们的**力为50 mN,分辨率为3 nN,超低噪声电流小于200 nN。
NanoFlip的时间常数为20微秒,是**同时符合规格的商用纳米压痕仪,**压痕行程为50μm,噪声<0.1nm,数字分辨率为0.004 nm,漂移率为< 0.05nm/s。
为了确保业内*广泛,*可靠的数据,NanoFlip能够实现0.1 Hz至1 kHz的动态激励频率。
样品台移动,Z轴为25 mm,X为20 mm,Y轴为20 mm,分辨率为nm,可在大面积上精确定位样品。
载荷框架刚度> 7 e5N/m
独特的尖端校准系统集成到软件中,可实现快速,准确和自动的尖端校准。
可用的方法包,包含聚合物,薄膜和生物材料的提示,方法和标准
可用刮擦选项,**正常载荷为50 mN,**刮擦距离为2.5 mm,**刮擦速度为500μm/ s。
可选的NanoBlitz地形和层析成像软件,用于材料的3D和4D映射。