编号：FTJS10466
篇名：基于Taguchi-GA协同的磁性磨料抛光性能预测及制备工艺参数寻优
作者：王燎原 孙玉利 张桂冠 吴鹏飞 易思广 孙业斌 左敦稳
关键词： 优化 遗传算法 磁性磨料 磁力研磨 抛光性能
机构： 南京航空航天大学机电学院
摘要： 通过改变黏结法磁性磨料的制备工艺参数来设计正交试验,制备不同系列规格的磁性磨料,并对其进行形貌和成分检测.以3D打印AlSi10Mg板为加工对象,通过平面磁力研磨试验,揭示磁性磨料制备工艺参数对磁力研磨质量的影响规律.基于回归分析,建立参数与响应之间的回归模型,通过遗传算法实现参数优化.结果表明,在SiC粒径为18~25µm,Fe与SiC的质量比为4.7,环氧树脂与聚酰胺的质量比为2,固化温度为100℃的条件下,材料去除率为1.7 mg/min,表面粗糙度由原始的3.90µm降低至0.27µm,降低率为93.1%。
