中国粉体网讯 近日，中国科学院大连化学物理研究所电镜技术研究组副研究员刘岳峰与法国斯特拉斯堡大学主任研究员Cuong Pham-Huu、意大利科学院ICCOM研究所主任研究员Giuliano Giambastiani、常州大学教授郭向云等团队合作发表综述文章，系统总结了多孔碳化硅材料在多相催化领域中的研究现状和应用前景。碳化硅（SiC）是一种常见的工业陶瓷材料和微电子材料，由于……