会议背景

       高纯碳化硅粉体作为制备碳化硅单晶衬底、高端特种陶瓷、导热材料等的关键基础原材料，其纯度、粒径、晶型等物化指标直接影响下游产品的质量与性能。当前，碳化硅在新能源汽车、光伏储能、5G通信、AI大数据、航空航天等领域快速渗透，市场应用空间持续拓展。
        伴随国内新能源汽车、光伏储能、半导体产业快速扩张，超高纯碳化硅粉体市场需求持续爆发。长期以来，高端高纯碳化硅粉体制备核心技术由欧美、日本企业垄断，国内高端粉体高度依赖进口，是我国新材料领域重点攻坚的“卡脖子”短板赛道。现阶段行业普遍存在提纯难度高、痕量杂质管控难、量产稳定性差、核心制备装备国产化不足等痛点，产业链自主可控发展压力较大。
       为打通高纯碳化硅粉体上下游产业链壁垒，搭建产学研用深度协同创新交流载体，攻克行业共性技术瓶颈，推动产业降本增效、规模化高质量自主供应，中国粉体网将于2026年11月26日举办2026全国高纯碳化硅粉体制备技术及应用交流大会。
        本次大会汇聚行业顶尖专家、高校科研学者、一线工程技术人员、上下游企业研发与管理代表，围绕高纯碳化硅粉体合成、提纯、装备、检测、终端应用全链条开展深度研讨，共探产业发展机遇、破解核心技术难题，全面助推国内高纯碳化硅粉体产业高质量、自主化发展。   

会议时间

2026年11月26日

会议地点

苏州

主办单位

会议主题

1、国内外高纯碳化硅粉体产业格局、供需现状、国产替代机遇与现存挑战
2、5N/6N超高纯碳化硅粉体主流合成工艺对比及产业化进展
3、高纯碳化硅粉体深度提纯技术：金属杂质、氧氮杂质痕量去除工艺
4、高纯硅源、高纯碳源上游原料提纯与品质稳定管控技术
5、高纯碳化硅粉体表面改性、分散、防团聚处理技术
6、高纯碳化硅粉体粒径、晶型、形貌控制技术
7、PVT法碳化硅单晶长晶用碳化硅粉体指标要求
8、高纯碳化硅粉体低成本规模化量产、能耗优化与绿色生产技术
9、高纯碳化硅粉体在高端特种陶瓷领域的应用
10、高纯碳化硅粉体在热界面材料及导热领域的应用
11、高性能陶瓷用碳化硅粉体制备与性能调控技术
12、碳化硅粉体在精密研磨抛光领域中的应用
13、高纯碳化硅粉体在航空航天及军工领域前沿应用场景
14、高纯碳化硅粉体产业化发展的成本控制与规模化路径探讨

大会赞助

(赞助详细内容请联系会务组了解)
1 、协办赞助 (含2*2.6m展位、企业致辞、宣传片播放、企业报告、资料入袋等)
2 、晚宴赞助 (含2*2.6m展位、宣传片展示、晚宴致辞、主持人口播广告 等)
3、其它赞助 (会2*2.6m议礼品、资料袋、签到处双侧、会场后方广告，茶歇、椅背广告、胸牌广告赞助等)
4、展位展示 (展示桌椅、2*2.6m展位背景墙广告)

会议费用

2800 元/人  
注册费包括会务、资料、茶歇、餐食、茶歇、晚宴、等费用；

展位展示

服务内容：
1、标准展桌一套（配2把椅子）
2、企业喷绘背景墙广告1个
3、参会名额*2
4、线上企业宣传推文一篇

会务组

联系人：李先生
电 话：18254960832（同微信）