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浙江博来纳润电子材料有限公司(简称“博来纳润”)专注于为泛半导体行业平坦化材料提供整体解决方案,致力于电子级纳米氧化硅磨料、泛半导体用CMP抛光液、抛光垫等产品的技术研发和产业化,为半导体衬底等材料的纳米级平坦化提供工艺材料整体解决方案。
公司拥有10余年的CMP研发和产业化基础,其多家子公司为高新技术企业和专精特新企业,现拥有60余位来自国内外知名高校的博士、硕士组成的资深研发团队,具备强大的产品研发迭代能力,其中博士占20%左右,硕士占60%左右,拥有知识产权数十项,是上海市“院士专家工作站”,另有超过10余项***申请进入实质审查阶段。公司与上海集成电路研究院、复旦大学、上海大学、太原科技大学、上海工程技术大学等科研院所、高校建立了长期的CMP材料和工艺相关的产学研合作,具有强大的产品持续更新的研发平台。
公司拥有10余年的CMP研发和产业化基础,其多家子公司为高新技术企业和专精特新企业,现拥有60余位来自国内外知名高校的博士、硕士组成的资深研发团队,具备强大的产品研发迭代能力,其中博士占20%左右,硕士占60%左右,拥有知识产权数十项,是上海市“院士专家工作站”,另有超过10余项***申请进入实质审查阶段。公司与上海集成电路研究院、复旦大学、上海大学、太原科技大学、上海工程技术大学等科研院所、高校建立了长期的CMP材料和工艺相关的产学研合作,具有强大的产品持续更新的研发平台。










