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SDI ND-0407-N1-CE 浸渍提拉镀膜制备方案

SDI ND-0407-N1-CE 浸渍提拉镀膜制备方案
秋山工业  2026/09/28  |  阅读:77

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产品配置单:
方案详情:

行业痛点:实验室制备功能薄膜时,提拉速度与角度控制精度直接影响膜厚均匀性。普通提拉装置仅单轴垂直运动,无法实现斜角提拉与横向定位,膜厚重复性差,每次实验需反复调试参数。

解决方案:株式会社SDI ND-0407-N1-CE桌面型浸渍提拉镀膜机配备Z轴与X轴双轴运动加θ角度控制,Z轴与X轴行程均为150mm,支持纳米级超低速提拉与斜面上拉。设备为CE适配规格,可将基板以设定速度从溶胶中匀速提出,通过提拉速度控制湿膜厚度。

方案优势:双轴加角度控制使镀膜工艺从简单垂直提拉扩展为斜角与横向定位镀膜,满足不同基板形状与膜层取向需求。纳米级超低速提拉保证了膜厚的精确控制与批次重复性,桌面型结构适配研发实验室空间,CE认证便于出口与合规使用。


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