行业痛点：纳米级薄膜的均匀性与厚度可控性依赖提拉速度的精密控制，传统手动浸渍提拉方式速度波动大，导致膜厚不均、重复性差。溶液浓度、浸渍时间与提拉速度之间的匹配关系需要精确控制，否则容易出现条纹、针孔等缺陷。实验室需要一种能够实现超低速稳定提拉的设备。

解决方案：采用SDI ND-0407-N1-CE浸渍提拉镀膜仪，以最小1nm/sec的超低速精密提拉实现纳米薄膜的均匀制备，双轴控制系统支持Z轴与X轴的协同运动，满足斜拉、变速提拉等复杂工艺需求。Z轴与X轴行程均为150mm，最大速度60mm/sec，适配多种基板尺寸。设备通过CE认证，适合实验室环境使用。

方案优势：1nm/sec最小速度实现超薄纳米膜制备；Z轴与X轴各150mm行程适配多种基板尺寸；CE认证满足欧洲安全标准；桌面式设计适配实验室环境；适合功能陶瓷、光电材料与传感器薄膜研究；提拉速度与行程可编程，便于工艺重复。