随着科学技术的飞速发展，半导体材料的革新速度也进一步加快。当前，碳化硅作为第三代半导体材料的典型代表，在新能源汽车、光伏、储能等新兴领域正快速渗透，已成为全球半导体产业的前沿和制高点。同时，我国“十四五”规划已将碳化硅半导体纳入重点支持领域，碳化硅半导体将在我国5G基站建设、特高压、城际高速铁路和城市轨道交通、新能源汽车充电桩、大数据中心等新基建领域发挥重要作用。
近年来，我国在SiC材料领域取得了显著进展，但与国际先进水平相比，在晶体生长技术、晶圆加工技术等方面仍存在一定差距。SiC晶体生长过程中面临着晶体缺陷控制、生长速率提升、晶体质量稳定性等难题；晶圆加工方面，则存在加工精度不足、良品率低、加工成本较高等挑战。在当前倡导节能减排的大趋势下，快速稳定地突破碳化硅单晶尺寸和质量等关键问题，才能够更好地占据未来碳化硅市场。
在此背景下，中国粉体网将于2025年8月21日在江苏·苏州举办第三代半导体SiC晶体生长及晶圆加工技术研讨会，大会将汇聚国内行业专家、学者、技术人员、企业界代表围绕晶体生长工艺、关键原材料、生长设备及应用、碳化硅晶片切、磨、抛技术等方面展开演讲交流。上海映智研磨材料有限公司作为参展单位邀请您共同出席。
上海映智研磨材料有限公司由张泽芳博士为核心的CMP研究团队共同创建于2013年，主营业务为半导体及其他产业CMP制程材料的研发和产业化。目前公司产品包括：用于集成电路抛光中研磨颗粒(高纯度硅溶胶)、半导体衬底及其他材料CMP制程所必须的抛光液和抛光垫三大种类，应用领域涵盖：
1）大硅片、砷化镓、碳化硅等半导体晶圆的CMP制程
2）集成电路CMP制程
3）其他类（LED蓝宝石衬底、消费类电子及光学金属、玻璃等）CMP制程
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