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沉淀活性二氧化硅研磨分散机
标题信息:沉淀活性二氧化硅研磨分散机
发布公司:上海依肯机械设备有限公司
点此询价
所在地:德国
发布时间:2024-03-28
 
商品详情
产品品牌: 上海依肯机械设备有限公司 产品型号: CMD2000

产品关键词概述:沉淀活性二氧化硅研磨分散机,疏水活性白炭黑研磨分散机,高速研磨分散机,高剪切研磨分散,研磨均质一体机,分体式研磨分散机沉淀(活性)二氧化硅=疏水(活性)白炭黑产品特性:疏水白碳黑是一种多孔性无定型二氧化硅,呈白色粉末状,其初生粒径为纳米颗粒,*细之产品如SH-107的*终粒径2~3um,它和橡胶、塑料、涂料混和后,能使产品具有各种良好的物理性能,它作为天然橡胶及人造橡胶浅色制品的良好填充剂,一方面减少橡胶的用量,降低成本,另一方面能提高橡胶制品的硬度,耐磨性,减少变形,增加耐油性;用于乳胶塑料皮革,轻质材料制品中,则易于脱膜和成型,减轻制品的重量;用于电线电缆中,能提高其绝缘性能;用于油漆油墨中,则是良好的增稠剂;用于涂料则具有**的耐高温性能,因而本品被广泛用于橡胶、塑料、制革、油漆、体育文化用品等行业。应用领域:疏水白炭黑具有极高的表面活性,在某些橡胶制品中具有透明、半透明性质;特别适宜做浅色、艳色、透明、半透明橡胶制品。此外,可作为乳胶的隔离剂、油漆油墨的防沉剂、增稠剂、触变剂,各种塑料薄膜的张口剂;农药颗粒剂、分散剂;粘合剂材料和轻质材料制品以及牙膏磨料等,并可用于中高档原子灰系列产品。技术指标:项目指标二氧化硅含量%≥99白度95筛余物(45um)%≤0.5加热减量%4.0-8.0灼烧减量(1000℃)%≤5.0PH值(10%水悬浮液)5.0-8.0视比重(1000转/分.20分钟)(g/mL)≤0.24比表面积(m2/g)125-210(400目的为125;800目的为175;1250目的为185;6000目的为210)表面改性处理根据客户的需要上海依肯**研发的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良,在原来CM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘。CMD2000研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。技术及价格请来电:贾小姐13795214885QQ:2294898886,公司有样机可供客户购前实验,欢迎广大客户来我司参观指导!CMD2000研磨分散机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。研磨分散机的特点:1、线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨2、定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。3、定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离4、在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。5、高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。CMD2000系列研磨分散机设备选型表型号流量L/H转速rpm线速度m/s功率kw入/出口连接DNCMD2000/43009000232.2DN25/DN15CMD2000/510006000237.5DN40/DN32CMD2000/10200042002322DN80/DN65CMD2000/20500028502337DN80/DN65CMD2000/30800014202355DN150/DN125CMD2000/5015000110023110DN200/DN150流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到**允许量的10%联系人:贾清清(销售部销售员)电话:862133506885-803移动电话:13795214885传真:86215156****地址:中国上海市松江区新桥镇莘砖公路518号38幢402室邮箱:jiaqq@i********公司主页:;

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