SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子层沉积系统，具有良好的均匀性及优越的阶梯覆盖性能，使用户能够精确控制每个原子层的沉积。通过手套箱，可在惰性气体环境下进行操作，并且可以防止吸入纳米级颗粒。该设备是小型且经济实惠的型号，与主机和控制电源相结合，追求仅在桌面上更容易操作。它能够处理多达4“晶圆的沉积，并对每个部件采取安全措施。AGUS提供沉积测试服务作为我们支持的一部分，以提高实验准确性。请随时与凯戈纳斯仪器商贸（上海）有限公司联系。-多样性-·真空可移动的手套箱可以处理易氧化的样品。·前驱体标配两组阀门和气瓶。·可选择将前驱体加热至200摄氏度。·可选择基片自动旋转支架。·可选择粉体沉积配件。·可选择经济实惠的废气处理设备。-表现-·保证基片表面上的每个均匀原子层针孔自由层沉积。·通过阶梯覆盖沉积在不均匀或3D形状的表面。·与CVD和PVD相比，可以获得更好的沉积，特别是对于具有更高纵横比和多孔沉积材料。-操作界面友好-·触摸屏使用户可以轻松设置配方或沉积过程，并检查每个驱动系统的运动。·可进行自动沉积，并在沉积完成后自动完成N2排放。·手套箱的真空排气和惰性气体的引入也可自动完成。-安全性-·这是具有各种互锁功能的高级设备。-具有轻柔关闭功能的顶部舱口使用户可以轻松地装载和卸载基片。性能真空度到达压力≤5Pa成膜性能膜厚分布≤±3%（φ100mm）设备构成设备型号SAL1000G成膜方向下表面基底尺寸φ100mmor4inchMax基底加热器温度350℃Max前驱体数2前驱体温度150℃Max净化气体N2（气体控制：带流量计针型阀）手套箱有机玻璃，真空-氮气吹扫式真空泵162L/min旋片式真空机械泵重量本体：50kg，手套箱：35kg，真空泵：27kg可选配置基片自动旋转支架粉体沉积配件废气处理设备前驱体加热器-200℃安装要求电源要求电源3相、200V±10%、15A、50/60Hz接地＜100Ω线缆5m附赠N2吹扫气体供给压力0.1~.0.2Mpa接口1/4Swagelok压缩空气供给压力0.6~0.8Mpa接口φ6mm接口真空泵排气口排气口KF-25法兰设备排气口排气口φ38mmxL28软管适配器安装尺寸W1000xD700xH900