刘红亮

推荐低温中压等离子体射流技术在氮化硅粉体合成中的应用

中国粉体网讯 氮化硅具有优异的物化性能，在国防、电子信息等关键领域都占据重要的地位。高质量粉体是制备高性能陶瓷的首要前提。氮化硅（Si3N4）是一种氮原子和硅原子比例为4:3的共价键化合物，它是一种六方晶体结构，有α、β和γ[更多]