丹东百特

推荐使用BeNano检测不同pH环境中CMP抛光液的Zeta电位和粒径

CMP抛光液与抛光垫和固定环结合使用，以平整表面不规则的形貌，使晶圆表面光滑（图1），光滑的表面是后期形成集成电路的必要条件。晶片的平整度非常重要，与所用抛光浆料颗粒的尺寸分布有关。抛光液中颗粒的尺寸和分布会影响抛光速率和抛[更多]

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