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200mm WLO工艺紫外纳米压印光刻设备 晶圆级光学器件加工(WLO)
200mm WLO工艺紫外纳米压印光刻设备 晶圆级光学器件加工(WLO)

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型号

200mm WLO工艺紫外纳米压印光刻设备 晶圆级光学器件加工(WLO)

品牌

天仁微纳

产地

山东

样本

暂无
青岛天仁微纳科技有限责任公司

高级会员

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第1年

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光学仪器及设备

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兼容基底尺寸2inch、100mm、150mm、200mm
特殊尺寸可以定制
支持基底材料硅片、玻璃、石英、塑料、金属等
上下片方式

单片机械手自动上下

晶圆预对位

光学巡边预对

纳米压印技术

紫外纳米压印(UV-NIL),APC主动平行控制技术,适合大面积WLO、WLS等工艺

压印精度优于10nm*
结构深宽比优于10:1*
TTV控制微米级精度(200mm晶圆)
紫外固化光源紫外LED(365nm)面光源,光强>1000mW/cm2,水冷冷却(2000mW/cm2类型光源可选配)
设备内部环境控制标配,外部环境Class 100,内部环境可达Class 10*
自动压印支持
自动脱模支持
自动工作模具复制支持
模具基底对位功能自动对位(选配)


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