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200mm WLO工艺紫外纳米压印光刻设备 晶圆级光学器件加工(WLO)品牌
天仁微纳产地
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200mm WLO工艺紫外纳米压印光刻设备 晶圆级光学器件加工(WLO)
国产光学仪器及设备
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| 兼容基底尺寸 | 2inch、100mm、150mm、200mm 特殊尺寸可以定制 |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等 |
| 上下片方式 | 单片机械手自动上下 |
| 晶圆预对位 | 光学巡边预对 |
| 纳米压印技术 | 紫外纳米压印(UV-NIL),APC主动平行控制技术,适合大面积WLO、WLS等工艺 |
| 压印精度 | 优于10nm* |
| 结构深宽比 | 优于10:1* |
| TTV控制 | 微米级精度(200mm晶圆) |
| 紫外固化光源 | 紫外LED(365nm)面光源,光强>1000mW/cm2,水冷冷却(2000mW/cm2类型光源可选配) |
| 设备内部环境控制 | 标配,外部环境Class 100,内部环境可达Class 10* |
| 自动压印 | 支持 |
| 自动脱模 | 支持 |
| 自动工作模具复制 | 支持 |
| 模具基底对位功能 | 自动对位(选配) |
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