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200mm 高精度紫外纳米压印光刻设备品牌
天仁微纳产地
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200mm 高精度紫外纳米压印光刻设备
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经过量产验证的200mm高精度、高深宽比结构纳米压印设备；
CLIV技术，确保压印结构精度与填充完整性；
设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本；
自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预；
标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm2），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，**支持各种商用纳米压印材料；
标配设备内部洁净环境与除静电装置；
随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构以及微透镜阵列等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际**的纳米压印水平。
| 兼容基底尺寸 | 2inch、100mm、150mm、200mm 特殊尺寸可定制 |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等 |
| 上下片方式 | 单片机械手自动上下 |
| 晶圆预对位 | 光学巡边预对位 |
| 纳米压印技术 | 紫外纳米压印（UV-NIL），CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压印 |
| 压印精度 | 优于10nm* |
| 结构深宽比 | 优于10:1* |
| 残余层控制 | 可小于10nm* |
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光强>1000mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配） |
| 设备内部环境控制 | 标配，外部环境class 100，内部环境优于Class 10* |
| 自动压印 | 支持 |
| 自动脱模 | 支持 |
| 自动工作模具复制 | 支持 |
| 模具基底对位功能 | 自动对位（选配） |
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