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扩散氧化炉
扩散氧化炉

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湖南烁科热工智能装备有限公司

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  • 非金属电热元件:

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  • 金属电热元件:

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  • 烧结气氛:

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  • 最高温度:

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扩散氧化炉

 扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一,用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金和烧结等工艺。水平管式炉的设计考虑了硅片生产的多种工艺性能需要,具有**生产能力和优越的性能指标。

 采用高可靠性工控机+PLC模式,对炉温、进退舟、气体流量、阀门进行全自动控制,实现全部工艺过程自动化;
  关键部件均采用进口,确保设备的高可靠性;
  具有友好的人机界面,用户可以方便地修改工艺控制参数,并可随时显示各种工艺状态;
  具有多种工艺管路,可供用户方便选择;
  具有多种报警功能及安全保护功能;
  具有强大的软件功能,配有故障自诊断软件,可大大节省维修时间;
  恒温区自动调整,串级控制,可准确控制反应管的实际工艺温度。

适用晶片尺寸: 2~8英寸圆片
  工作温度: 600℃~1300℃;
  可配工艺管数量: 1~4管/台
  恒温区长度及精度:≤±0.5℃/300~800mm (800℃~1300℃),
  单点温度稳定性:≤±0.5℃℃ /24h (1100℃);
  温度斜变能力:**升温速率:20℃/min,**降温速率:5℃/min;
  具有超温、断偶、热偶短路、工艺气体流量偏差报警和保护功能;
  可根据用户要求定制产品。

用于半导体器件、集成电路制造过程中扩散、氧化、退火及合金工艺。

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10分

售后服务

10分

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10分

性价比

10分
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