编号：FTJS03055
篇名：SiO_2-CeO_2复合氧化物对硅片的抛光性能评价
作者：柴明霞； 周雪珍；
关键词：二氧化硅-氧化铈复合氧化物； 硅片； 抛光； 稀土；
机构： 青海大学应用化学系； 南昌大学稀土与微纳功能材料研究中心；
摘要： 用合成的S iO2-CeO2复合氧化物对单晶硅片进行抛光,测定其抛光速率与制备条件及浆料配制条件之间的关系。结果表明:经800℃煅烧后制得的硅铈摩尔比nS iO2∶nCeO2为2∶1的复合氧化物对硅片具有最大的抛蚀速率。与此同时,选用三乙醇胺和六偏磷酸钠分别作为浆料的pH调节剂和分散剂可以获得理想的浆料分散性和悬浮稳定性。确定了抛光浆料的最佳pH值和固含量分别为11和4%。
