编号：FTJS02984
篇名：NiAl(110)和Cu-Al(111)合金表面生长超薄氧化铝膜的畴界和厚度的STM研究
作者：张云； 于迎辉； 吴萍； 秦志辉； 曹更玉；
关键词：超薄氧化铝膜； 超高真空扫描隧道显微术； 畴界； 厚度；
机构： 中国科学院武汉物理与数学研究所波谱与原子分子物理国家重点实验室； 中国科学院研究生院；
摘要： 利用低温超高真空扫描隧道显微术研究了在NiAl(110)和Cu-Al(111)合金衬底上氧化生长的超薄氧化铝膜的畴界和厚度。在这两种氧化铝薄膜上均观察到两种不同类型的畴界:反相畴界(antiphase domain boundary)和反射畴界(reflection domain boundary)。结果显示Cu-Al(111)表面上的氧化铝薄膜的反相畴界数目相对较少;在NiAl(110)表面形成了双层氧化铝薄膜,而在Cu-Al(111)表面形成的是单层的氧化铝薄膜;厚度差异与衬底表面铝的含量及生长条件有关。
