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氧化物晶体与薄膜最新研究进展(英文)

编号:FTJS02916

篇名:氧化物晶体与薄膜最新研究进展(英文)

作者:木村秀夫; 赵洪阳; 姚启文; 程振祥; 王小林;

关键词:体晶体; 薄膜; 压电性; 铁电性; 多铁性; 光催化;

机构: 日本国立物质材料研究机构; 澳大利亚卧龙岗大学电子材料研究所;

摘要: 在工业发展的进程中,氧化物材料在电子学领域中应用最为广泛。到目前为止,即使是对于氧化物晶体材料,从纳米科技角度来说,研究的趋势是降低尺寸直到很小的尺度。近年来,氧化物的研究目标也发生了显著的变化。本文介绍了作者课题组的与氧化物晶体及薄膜有关的三个研究方向。

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