编号：FTJS08579
篇名：六方氮化硼层间气泡制备与压强研究
作者：姜程鑫 陈令修 王慧山 王秀君 陈晨 王浩敏 谢晓明
关键词： 六方氮化硼 等离子体处理 纳米气泡 范德瓦耳斯异质结
机构： 上海科技大学物质学院 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 中国科学院大学材料科学与光电技术学院 中国科学院超导电子学卓越创新中心
摘要： 六方氮化硼(h-BN)具有六角网状晶格结构和高化学机械稳定性,可以用来封装气体并长期保持稳定,适合用作新型信息器件及微纳机电器件的衬底材料,具有巨大的应用前景.近期,科研人员发现氢原子可以无损穿透多层h-BN,在层间形成气泡,可用作微纳机电器件.本文研究了氢等离子体处理时间对h-BN气泡尺寸的影响.发现随着处理时间的延长,气泡尺寸整体变大且分布密集程度会降低.原子力显微镜的测量发现所制备的h-BN气泡具有相似的形貌特征,该特征与h-BN的杨氏模量和层间范德瓦耳斯作用相关.此外,发现微米尺寸气泡的内部压强约为1—2 MPa,纳米尺寸气泡的内部压强可达到GPa量级.
