编号：FTJS07715
篇名：氧化铝钝化膜沉积工艺研究
作者：许烁烁 陈特超 禹庆荣 刘舟
关键词： 光伏装备 沉积工艺 氧化铝薄膜 少子寿命
机构： 中国电子科技集团公司第四十八研究所
摘要： 采用平板式等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备,开展氧化铝(Al2O3)薄膜沉积工艺的研究。通过在p型单晶硅片背表面沉积Al2O3和氮化硅(SiNx)薄膜,形成Al2O3/SiNx叠层钝化膜,研究了Al2O3薄膜沉积工艺中加热温度、工艺传送速度、微波功率、三甲基铝(TMA)流量等工艺参数对钝化效果的影响,得到了最佳的工艺参数:加热温度350℃、工艺传送速度240cm/min、微波功率521W、TMA流量600mg/min。在该工艺条件下进行Al2O3/SiNx叠层钝化膜的沉积,测试硅片的平均少子寿命达到335.7μs。在此基础上进行PERC电池生产,电池转换效率达到21.876%。
