编号：CPJS03904
篇名：微波化学气相沉积制备AlOx薄膜及钝化晶硅性能的研究
作者：张健[1] ;巴德纯[1] ;张振厚[2]
关键词：线性微波源 氧化铝薄膜 少子寿命
机构： [1]东北大学机械及自动化学院,沈阳110004; [2]中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司,沈阳110179
摘要： 通过线性微波化学气相沉积（LMW-PECVD）技术在P型单晶样品上高生长速度下制备了高质量的AlOx薄膜,采用场发射电子扫描显微镜、光学椭圆偏振仪器、有效少子寿命测量仪对实验样品进行了表征和分析.结果表明,AlOx薄膜的厚度和折射率都对晶硅的钝化效果有影响,薄膜厚度在20～30 nm之间、折射率在1.6～1.65 之间出现了理想的钝化效果;热处理对AlOx薄膜钝化效果的影响较为复杂,理想的热处理温度在350～400 ℃之间.
