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CTAB-乙烯基修饰合成二氧化硅膜及CH4/CO2的分离

编号:FTJS05826

篇名:CTAB-乙烯基修饰合成二氧化硅膜及CH4/CO2的分离

作者:张志刚[1] ;郑立娇[1] ;李丹丹[1] ;李文秀[1]

关键词:溶胶修饰 模板剂 气体分离

机构: [1]沈阳化工大学辽宁省化工分离技术重点实验室,辽宁沈阳110142

摘要: 以乙烯基三乙氧基硅烷(A-151)和正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为有机模板剂,在酸性条件下通过溶胶-凝胶法制备疏水性SiO2膜,采用IR、XRD、SEM等对膜材料进行表征,并通过激光粒度分析仪对不同醇酯比的溶胶粒径分布进行测试.结果表明:疏水基团已成功修饰到SiO2材料中,加入一定量CTAB后,膜材料具有良好的CH4、CO2气体渗透性能,压差20 kPa时,CH4/CO2气体的分离因子接近2.27,高于Knudsen扩散理想分离因子1.66,表明膜材料具有一定的分子筛效应.

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