编号：CPJS03776
篇名：用于离子迁移谱仪进样的纳米二氧化硅增强硅橡胶膜的制备
作者：秦墨林 ;郭成海 ;杨柳 ;赵建军 ;曹丙庆
关键词：纳米二氧化硅 亲水性 改性 疏水性 增强 硅橡胶膜 离子迁移谱仪
机构： 防化研究院,北京102205
摘要： 以六甲基二硅氮烷为改性剂,采用湿法工艺对纳米SiO2进行表面疏水化改性,制备了用于离子迁移谱仪进样的纳米SiO,增强硅橡胶膜,考察了加热温度与反应时间对纳米SiO2的改性效果,研究了改性纳米SiO,与硅橡胶的相容性、纳米SiO,掺杂硅橡胶膜的厚度及拉伸性能.结果表明,在疏水化改性反应中,随着加热温度的升高或反应时间的延长,纳米SiO2表面羟基数下降,比表面积减小,最佳加热温度为120℃,反应时间为4h;随着反应时间的延长,改性纳米SiO2与硅橡胶的混合液透光度增大,说明纳米SiO,与硅橡胶的相容性提高;以聚苯乙烯为基底材料,采用溶剂挥发工艺制得纳米SiO2掺杂硅橡胶膜的拉伸强度随着纳米SiO2掺杂量的增加而增大,当纳米SiO2与硅橡胶掺杂质量比为30：100时,可制得厚为2～5 μm的最薄硅橡胶膜.
