编号：FTJS04805
篇名：Ni-P镀层的磁性混合流体抛光
作者：郭会茹； 吴勇波； 焦黎； 曹建国； 李亚国；
关键词：磁性混合流体抛光； 磨粒涂层铁粉； Ni-P镀层； 磁性材料； 抛光路径；
机构： 秋田县立大学机械智能系统工程学部； 北京理工大学先进加工技术国防重点学科实验室；
摘要： 采用磁性混合流体(Magnetic compound fluid,MCF)对光学镜头模具的镍-磷(Nickel phosphorus,Ni-P)镀层表面进行抛光研究。试验中使用两种构成成分的MCF:常用的BASF制HQ铁粉(Carbonyl-iron-particles,CIPs)和Al2O3磨粒基MCF1以及新型的表面ZrO2磨粒(50~100 nm)涂层铁粉基MCF2。两种成分的MCF都消除了Ni-P镀层表面单晶金刚石车削残留的螺旋状切削痕。但使用MCF1,由于Al2O3磨粒相对于ZrO2磨粒较大且较硬,易引入抛光痕及铁粉粒子的嵌入,难以进一步改善Ni-P镀层的表面质量。采用新型ZrO2磨粒涂层铁粉基MCF2,则没有引入抛光痕及粒子的嵌入,实现Ni-P镀层表面粗糙度方均根值(Root mean square,RMS)和Ra的改善。通过在x轴和y轴方向设计抛光路径,使粒子均具有相对运动速度,同时改善了Ni-P镀层的表面粗糙度及平坦度。初步证明了磁性混合流体抛光亦可用于较软的磁性材料表面的纳米级光整加工。
